ヒエの冬期世代促進のための日長処理効果と好適播種密度

タイトル ヒエの冬期世代促進のための日長処理効果と好適播種密度
担当機関 岩手農研
研究課題名
研究期間 2006~2006
研究担当者 高草木雅人
仲條眞介
阿部陽
中野央子
木内豊
発行年度 2006
要約 ヒエの冬期世代促進においては、短日処理により播種から採種までの期間が短縮でき、一方、長日処理では十分な生育量を確保できる。占有面積をより少なくし、出穂個体数をより多く確保できる好適栽培条件は、長日処理で、播種密度が箱当たり750粒(約6000粒/平方メートル)である。
キーワード 世代促進、日長処理、播種密度
背景・ねらい 岩手県農業研究センター県北農業研究所で進めているオリジナル雑穀品種の開発においては、育種年限を短縮し、初期世代を効率的に養成する方法が求められている。ヒエにおける育種年限の短縮法として、冬期に温室を利用した世代促進技術が有効であるが、十分な個体数を確保し、遺伝的多様性を損なわないための栽培条件については不明な点が多い。そこで、ヒエの冬期世代促進のための好適栽培条件を明らかにするため、日長処理がヒエの生育・収量等に及ぼす影響を、「もじゃっぺ」、「達磨」、「軽米在来(白)」の3品種について、それぞれ異なる播種密度で比較検討する(表1)。
成果の内容・特徴
  1. 短日処理では、到穂日数および登熟日数が少なくなることから、播種から採種までの期間の短縮効果がある。一方、長日処理では出穂個体率、穂数、出穂個体当り穂数、収量の増加効果がある(表2)。
  2. ヒエの冬期世代促進において、占有面積をより少なくし、出穂個体数をより多く確保できる好適栽培条件は、長日処理で、播種密度が箱当たり750粒(約6000粒/平方メートル)である(表2)。
成果の活用面・留意点
  1. 平成17年度岩手県農業研究センター試験研究成果「ヒエの冬期世代促進における適正播種密度の品種間差異」における「達磨」の適正播種密度約2000粒/平方メートルは、短日条件での試験結果である。
  2. 「達磨」の場合は、長日であっても播種密度が低い方が出穂個体率が大幅に増加することから、種子量が限られている場合、箱当たり250粒(約2000粒/平方メートル)の薄播きとする(表2)。
URL http://agriknowledge.affrc.go.jp/RN/3010023035
カテゴリ 育種 栽培条件 播種 ひえ 品種

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